1、仪器型号：SI500D
2、制造厂商：SENTECH公司
3、功能说明：可沉积SiO2、Si3N4、SiC、Poly-Si等介质薄膜。
4、性能指标：
（1）沉积厚度：2 μm以下可一次完成；
（2）气体：CF4、O2、Ar、SiH4、NH3；
（3）功率：最高1200W；
（4）最高温度：310℃。
5、样品要求：晶圆尺寸4 inch（直径）
6、收费标准：350元/30分钟
备注：30分钟为基本时间单元
电话：0351-3557319/15110401301（微信同号）
地址：中北大学微纳加工中心（山西省太原市尖草坪区学院路3号）