1、仪器型号：RIE-10NR
2、制造厂商：莎姆克公司
3、功能说明：用于Si、SiO2、SiC、Si3N4等材料的刻蚀。
4、性能指标：
（1）刻蚀均匀性: ≤±5％（均匀性≤φ125mm）；
（2）样品尺寸：4 inch3片或8inch1片/单次工艺，向下兼容（不需要贴片）；
（3）刻蚀气体：SF6、CHF3、CF4、Ar、O2、N2。
5、样品要求：晶圆尺寸为4 inch3片或8inch1片/单次工艺，向下兼容（不需要贴片）
6、收费标准：500元/小时
备注：30分钟为基本时间单元
联系人：孟老师
电话：0351-3557319/15110401301（微信同号）
地址：中北大学微纳加工中心（山西省太原市尖草坪区学院路3号）